真空離子鍍膜機常需用到質(zhì)譜計來控制其鍍膜的工藝，而回旋質(zhì)譜計是屬于能量平衡質(zhì)譜計的一種。它基于離子在正交的高頻電場和直流磁場的回旋共振現(xiàn)象為其工作原理。其基本原理是在1949年由Hipple（希普爾）等提出的。在1951年，Thomas（托馬斯）等首次研發(fā)制出質(zhì)譜計。1954年，Alpert（阿爾伯特）等制出可用來分析超高真空下的殘余氣體的簡單型回旋質(zhì)譜計，大大地推進了超高真空技術的發(fā)展。到了1960年，Klopfer（克洛普弗）研發(fā)出可去除非共振離子空間電荷影響的一種復雜型回旋質(zhì)譜計，所制質(zhì)譜計的靈敏度可在10%的范圍內(nèi)保持不變，從而使定量分析成為了可能。但其又存在參數(shù)調(diào)整困難、結構較復雜、內(nèi)部電極不易徹底除氣等缺點。

　　由于回旋質(zhì)譜計的分析器和離子源是共處于一個較小空間中的，因而電場會受到非共振離子的干擾，所以為了克服非共振離子所引起的電場畸變，基于簡單型回旋質(zhì)譜計之上發(fā)展了一種復雜管型的回旋質(zhì)譜計，其性能相較于簡單型回旋質(zhì)譜計要更加穩(wěn)定。

　　該質(zhì)譜計的主要參數(shù)有：靈敏度常數(shù)、回旋共振頻率、質(zhì)量M+△M的非共振離子所能到達的最大半徑、分辨能力、共振離子的最終能量、共振離子的軌跡長度、共振離子的飛行時間以及共振離子的回旋圈數(shù)等。
其優(yōu)缺點有：

　　1.優(yōu)點：零件少、電極薄、體積小、放氣少且?guī)缀鯖]有＂記憶效應＂等，特別適合對超高真空小體積作殘氣分析。

　　2.缺點：操作不便、質(zhì)標非線性、需用磁場、譜線自動記錄復雜、不能用電子倍增器檢測，使最小可檢分壓力受到限制。

　　在1960年，我國于成都一所學院首先研制回旋質(zhì)譜計成功；1963年，中國科學院電子研究所詳細研究了簡單型回旋質(zhì)譜計的工作特性；到了1965年，中國科學院蘭州物理研究所研制出20%的定量精度的簡單型回旋質(zhì)譜計成套設備，為離子鍍膜機后續(xù)質(zhì)譜計研發(fā)工作奠定了基礎。

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