目前市場(chǎng)上磁控濺射鍍膜設(shè)備的濺射方式有很多種，比如說在使用中常見的二級(jí)濺射、三級(jí)濺射、四級(jí)濺射，以及磁控濺射，對(duì)向靶濺射......等多種。
    那么這些濺射方式有什么區(qū)別呢？下面我們來簡(jiǎn)單的介紹幾種濺射方式，以增加大家對(duì)磁控濺射鍍膜設(shè)備的認(rèn)識(shí)。
    二級(jí)濺射：磁控二級(jí)濺射的結(jié)構(gòu)是由一對(duì)陰極和陽級(jí)所主城的冷陰級(jí)輝光放電管結(jié)構(gòu)。接通電源時(shí)，其陰極靶上的負(fù)高壓在兩極之間產(chǎn)生輝光放電并且建立等離子區(qū)域，其中帶正電的的離子在陰極作用下，加速轟擊陰極靶，使其物質(zhì)表面濺射，最后以分子或者原子狀態(tài)下沉積基片表面，形成靶材鍍膜。

CCZK-EL電阻蒸發(fā)真空鍍膜機(jī)（真空電鍍機(jī)系列）

    三級(jí)濺射和四級(jí)濺射和二級(jí)濺射差不多，其主要區(qū)別是增加了一個(gè)電極，并且能夠在主閥全開的狀態(tài)下制取高純度膜使其光熱電子強(qiáng)化放電，既能夠讓濺射速率提高，而且還能夠讓濺射工況控制更加方便。

    射頻濺射：這是一種60年代使用的射頻輝光放電，能夠從制取從導(dǎo)體到絕緣體的任意材料薄膜，在70年代得到普及。

磁控濺射鍍膜設(shè)備原理

    磁控濺射：磁控濺射是70年代發(fā)展的一種新型濺射技術(shù)，在目前工業(yè)中被廣泛的使用，其具有高速、低溫、低損傷的優(yōu)點(diǎn)。缺點(diǎn)是靶材利用率不高，基本上低于40%。
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    以上就是磁控濺射鍍膜設(shè)備的一些鍍膜方式。

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